
清洁空间的温湿度重要是依据工艺请求来判断,但在满意工艺请求的前提下,应考虑到人的舒服度感。净化空调一般净化工艺流程中各部分相关知识净化空调箱的一般结构新风、回风段:新风、回风口位置按设计要求可分别在端部、顶部或左右。净化空调厂家从侧重于实际应用的角度,介绍了气流组织;净化空调系统;空调净化设备(包括:空气过滤器、过滤器送风口及风机过滤器单元、洁净工作台、自净器、净化单元、装配式洁净空、空气吹淋室、净化空调机、空气处理机组、净化新风机组等);空气处理过程;净化空调工程的设计方法和设计计算;一般工业洁净室、生物洁净室和生物安全洁净室净化空调的特点、设计方法、施工要求及节能和运行管理方面的内容。 本书可作为高等院校相关专业的“净化空调”或“空气洁净技术”课程的教材,亦可供空气净化(空气洁净)领域的暖通工程技术人员参考。随着空气清洁度请求的进步,呈现了工艺对温湿度的请求也越来越严的趋势。净化空调厂家从侧重于实际应用的角度,介绍了气流组织;净化空调系统;空调净化设备(包括:空气过滤器、过滤器送风口及风机过滤器单元、洁净工作台、自净器、净化单元、装配式洁净空、空气吹淋室、净化空调机、空气处理机组、净化新风机组等);空气处理过程;净化空调工程的设计方法和设计计算;一般工业洁净室、生物洁净室和生物安全洁净室净化空调的特点、设计方法、施工要求及节能和运行管理方面的内容。 本书可作为高等院校相关专业的“净化空调”或“空气洁净技术”课程的教材,亦可供空气净化(空气洁净)领域的暖通工程技术人员参考。具体工艺对温度的请求当前还要列举,但作为总的准则看,因为加工精度越来越精巧,所以对温度稳定范畴的请求越来越小。例如在大范围集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差请求越来越小。直径100 um的硅片,温度回升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时请求湿度值个别较低,因为人出汗当前,对产品将有沾染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。绝对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,假如产生在精巧装置或电路中,就会引起各种事变。绝对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片名义粘着的灰尘化学吸附在名义难以清除。绝对湿度越高,粘附的越难去掉,但当绝对湿度低于30%时,又因为静电力的作用使粒子也轻易吸附于名义,同时大量半导体器件轻易产生击穿。对硅片生产最佳湿度范畴为35-45%。